[공학] 공학 현장 실습 코오롱 Dry Film PhotoResist(DFR)
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작성일 23-02-10 08:37
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2008 工學지식의 실무응용 ㈜코오롱 Dry Film PhotoResist(DFR) 목 차 1. 코오롱 회사 소개 2. Dry Film photoResist 3. DFR 기술의 원리 4. DFR 기술의 응용 상황(2007년 기준) 자본금 1천 60억원 매출액 1조 8억원 임직원수 2,415명 주력 분야 원사, 산자, 필름, 전자재료, 엔지니어링 플라스틱 등 연혁 1954년 개명상사를 설립 - 국내에 최초로 나일론을 소개. 1957년 주식회사 한국 나理論 설립 이후 ㈜코오롱으로 섬유 및 화학회사로 성장. 1990년대 이후부터 범용성 섬유제품을 탈피하여 고부가가치 화학, 필름산업에 주력하여 기업 경쟁력을 강화하고 있음. 회사소개 ㈜코오롱 대한민국 첨단 화학 소재 산업의 리더 Dry Film PhotoResist DFR (Dry Film PhotoResist) 이란 단면렙潁冗다층 기판의 회로 형성에 사용되는 필름상의 에칭 레지스터. 베이스 필름상에 도포한 Photoresist층을 건조 후, 보호 필름을 photoresist층에 laminate를 하여 제조. Photoresist Negative PR Positive PR Development Exposure Development Exposure DFR 기술의 원리 Types of Photoresist Base Film Cover Film Photoresist Layer Base Film Cover Film Binder Polymer Photo Initiator Monomer or Oligomer Cover Film Polyethylene Base Film Polyethyleneterephthalate DFR 기술의 원리 Structure of DFR The Structure of Binder polymer The Mechanism of Developing NaHCO3 Na+ + HCO3- Na2CO3...
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